當時，盡管櫻國鷹國刻機企業衆，但們卻共同陷入片困境。

原因就于刻機源波長始終無法突破n瓶頸，無法再進步縮。

半導體制造領域裡，源波長縮直接關聯着芯片制程先進性。

櫻國呢康公司主張采用納米f激技術，而由鷹國主導euv聯盟則力推使用極技術，其源波長僅幾納米。

然而，當時技術瓶頸使得這兩種先進方案都難以實現。

因此，全球半導體業這時期仿佛陷入滞狀态。

就這個關鍵時刻，林苯堅進們視線。

寶積電作，腦靈乍現，提個颠覆性解決方案。

林苯堅建議，鏡頭與矽片之間引入層，讓線經過折射，将波長至納米。

如此，投射到矽片圖案分辨率将更為清晰，晶片密度也更層樓。

通過懈努力反複實驗，證這個方案性。

于，滿懷信林苯堅帶着這個方案向櫻國鷹國名半導體公司洽談。

然而，對于林苯堅提颠覆性方案，櫻國鷹國刻機巨頭企業卻持謹慎态度。

們認為鏡頭與矽片間加會産氣泡并帶來污染風險，這能會破壞芯片産嚴苛無塵環境，産品良品率。

們來，隻通過入研究源技術、源波長才正。

面對拒絕，林苯堅像位執着匠，斷雕琢改良自己方案，次又次親自門，展示技術實力。

然而，這些努力并未赢得櫻國鷹國名半導體公司青睐。

面對這樣困境，林本堅得尋作夥伴。

瞄準當時尚未嶄頭角asl公司。

時asl公司規模很，就像間型作坊，個公司僅幾名員。

規模響力，asl遠遠無法與呢康、佳螚等刻機巨頭相提并論。

然而，正這似起公司，卻獨具慧認林本堅方案。

們到林本堅潛力，決定投入資支持研究。

林本堅負衆望，asl公司鼎力支持，僅耗時，便成功研發浸潤式刻機，其精度達到所未度——n！

這成就如同夜空璀璨煙，瞬間點亮asl程。

夜之間，asl從默默無聞公司躍成為業翹楚，打破呢康、佳螚壟斷格局。